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CIF等離子去膠機(jī)

產(chǎn)品參數(shù)

CIF推出等離子去膠機(jī),采用電感耦合各向同性(各個(gè)方向)等離子激發(fā)方式,適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。其外觀美學(xué)設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)緊湊,漂亮大氣,優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使得處理樣品量更大,適用范圍更廣,性能更穩(wěn)定,操作更簡(jiǎn)便,性價(jià)比更高,使用成本更低,實(shí)用性更強(qiáng),更容易維護(hù)。特別適合于大學(xué),科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,對(duì)電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹(shù)脂、MEMS制造過(guò)程中犧牲層,干刻或濕刻處理前或后,對(duì)基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除,以及晶圓表面預(yù)處理等。
屬性
產(chǎn)品名稱
型號(hào)
廠商性質(zhì)
訪問(wèn)量
更新時(shí)間
詳情
CIF等離子去膠機(jī)
SPB5/6/8
生產(chǎn)廠家
3099次
2024-03-18

產(chǎn)品詳情

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等離子去膠機(jī)原理

等離子去膠機(jī)原理同等離子清洗類似,主要通過(guò)氧原子核和光刻膠在等離子體環(huán)境中發(fā)生反應(yīng)來(lái)去除光刻膠,由于光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物,在射頻或微波作用下,工藝氣體氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過(guò)泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。在反應(yīng)氣體中加入氮?dú)饣蛘邭錃饪梢蕴岣呷ツz性能、加強(qiáng)對(duì)殘留物的去除。與傳統(tǒng)的化學(xué)去膠方法相比,等離子去膠機(jī)具有更高的清潔效率和更少的環(huán)境污染。

產(chǎn)品特點(diǎn)

u7寸彩色觸摸屏互動(dòng)操作界面,自動(dòng)控制監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài),20個(gè)配方程序,工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯。

uPLC工控機(jī)控制整個(gè)去膠過(guò)程,手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式

u石英真空艙,全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕無(wú)污染。

u可選用石英舟,更適合晶元硅片去膠應(yīng)用。

u采用花灑式多孔道進(jìn)氣方式,改變單孔進(jìn)氣不均勻問(wèn)題。

u采用防腐數(shù)字流量計(jì)實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體輸入精準(zhǔn)控制。標(biāo)配雙路氣體輸送系統(tǒng),可選多氣路氣體輸送系統(tǒng),氣體分配均勻。可輸入氧氣氬氣氮?dú)?/span>氫氣或混合氣等氣體。

uHEPA高效過(guò)濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。

u處理高效均勻,效率高,工藝重復(fù)性好。

u樣品處理溫度無(wú)熱損傷和熱氧化

u安全保護(hù),艙門打開(kāi),自動(dòng)關(guān)閉電源,機(jī)器運(yùn)行、停止提示。


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